富士軟片和住友化學正投入新型EUV光阻劑開發，最快可能明年即可開始量產，為下一代晶片製程問世助力。路透
《日經亞洲評論》報導，富士軟片（FUJIFILM Holdings）和住友化學（SUMITOMO CHEMICAL）正在開發用於極紫外光（EUV）微影技術的特殊光阻劑（photoresist），最快將於2021年開始供應這種可供下一代晶片製造過程使用的材料，實現把智慧手機等裝置尺寸縮小、能源效率增強率等目標。
EUV光阻劑市場本就為日本供應商所佔據，但有新的廠商加入，勢必將使這塊半導體材料市場更競爭。
富士軟片將投資45億日圓（約12.6億元台幣）在旗下靜岡縣工廠引進相關設備，最快於明年開始量產。據富士軟片表示，該公司所生產的新型光阻劑，在晶圓蝕刻過程中留下的殘留物較少，代表所產出有缺陷的晶片將會減少。
同時，住友化學打算在2020年度前，在大阪市1座工廠建置從開發到生產的光阻劑全產線。該公司在傳統光阻劑市場上已佔有一席之地，且已然與1家大型半導體廠簽訂了供應新型材料的臨時合約。
有了新型光阻劑的協助，晶片製程將有望獲得提升。目前市場最先進的半導體製程，為5奈米製程技術，而台積電（2330）和其他半導體廠正試圖跨入3奈米製程的商業化。
2019年美國蘋果公司（Apple Inc.）iPhone 11系列內建的A13處理器，採用了台積電導入EUV技術的7奈米加強版製程，至於今年將上市的iPhone 12系列所採A14處理器，就會升級為5奈米製程。
如南韓三星電子（SAMSUNG）和美國英特爾（intel）等半導體大廠，也都正積極導入EUV技術。
《日經》指出，目前在EUV用光阻劑市場，包括JSR、信越化學工業（ShinEtsu）等日本供應商握有全球達9成市佔。（劉利貞／綜合外電報導）
發稿：00：07
更新：06：20
